中国研究人员绕过美国出口管制，在未使用ASML先进EUV光刻设备的情况下实现sub-3-nm半导体加工。

Ann Cao / 南华早报 — 科技：中国研究人员实现亚3纳米半导体加工，无需先进EUV光刻，绕过美国出口管制。突破采用较旧的光刻……