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中国仅靠DUV光刻结合多重曝光实现5纳米级密度，但经济性制约进一步进展

原标题 · China achieves 5nm-class density using DUV-only lithography with multi-patterning, but economics constrain further progressMultiple patterning…

原文 · Smithwire · 2 小时前

多重曝光技术延伸了旧设备的能力，但成本上升和良率取舍限制了其超越当前节点密度的可行性。

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